6英寸近距离旋转蒸腾镀膜炉

　　RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距离旋转蒸腾镀膜炉，腔体选用高真空不锈钢，此款设备可用于蒸腾或CSS镀膜试验，氧化物、半导体或许太阳能基片退火试验，其载样台尺度为150，顶部载样台能够旋转进步镀膜均匀度

　　RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距离旋转蒸腾镀膜炉，腔体选用高真空不锈钢，此款设备可用于蒸腾或CSS镀膜试验，氧化物、半导体或许太阳能基片退火试验，其载样台尺度为150，顶部载样台能够旋转进步镀膜均匀度。此款高温炉的加热原件是两组红外灯管（别离坐落顶部和底部）。升温速率是20℃/S

　　选用导热率较高的氮化铝板陶瓷片（直径6英寸×0.5mm厚）作为载样台，以抵达较好的加热均匀性

　　两个英国进口欧陆3204数字温度操控器，控温精度1℃，可独立操控顶部和底部加热器

　　1、高精度的温度仪表，LCD液晶显现屏，5位数值显现，经过快速设置装备简略，C/F单位切换

　　3、具有过温维护 断偶维护，过温或断偶时电炉加热电路主动堵截,，（当电炉温度超越900度或热电偶烧断时，主电路上的沟通继电器会主动断开，主电路断开，面板上ON灯平息，OFF灯亮，有限的维护电炉）。

　　5、具有断电维护功用，即断电后再给电发动炉子时、程序不是从开端温度开端升、而是从断电时炉温开端升。

　　真空蒸镀设备主要由真空室和抽真空体系组成，真空室内有蒸腾源(即蒸腾加热器)、基片及基片架、基片加热器、排气体系等。

　　将镀膜资料置于真空室内的蒸腾源中，在高真空条件下，经过蒸腾源加热使其蒸腾，当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺度今后，膜材蒸气的原子和分子从蒸腾源外表逸出后，很少遭到其他分子或原子的磕碰与阻止，可直接抵达被镀的基片外表上，因为基片温度较低，膜材蒸气粒子凝聚其上而成膜。

　　为了进步蒸腾分子与基片的附着力，能够对基片进行恰当的加热或离子清洗使其活化。真空蒸腾镀膜从物料蒸腾、运输到堆积成膜，阅历的物理进程如下:

　　(1)使用各种方式将其他方式的能量转换成热能，加热膜材使之蒸腾或提高，成为具有必定能量(0.1~0.3eV)的气态粒子(原子、分子或原子团):

　　(2)气态粒子脱离膜材外表，以适当的运动速度基本上无磕碰的直线输运到基片外表;