核心装备赋能半导体创新 雷博科仪闪耀慕尼黑上海光博会

　　在本次展会现场，雷博科仪携五大优良仪器——AC200匀胶机、DM200-SE显影机、HP100-SE烤胶机、EC400有机-金属线多靶磁控溅射镀膜系统亮相。

　　作为亚洲激光、光学、光电行业的年度盛会，本届慕尼黑上海光博会以“躬耕不辍，智启新程”为主题，超过1400家展商齐聚申城，展示面积逾10万平方米，全面展示激光、光学、光电领域从基础元器件到系统集成的全产业链创新成果。

　　(以下简称“雷博科仪”)受邀参与此次盛会，并在E7馆检测与质量控制区大放光彩。

　　雷博科仪专注于为微电子与半导体领域的高等院校、科研院以及各类生产公司可以提供半导体设备仪器。在本次展会现场，雷博科仪携五大精良仪器

　　雷博科仪展台不仅是技术展示的窗口，更是行业交流的枢纽科研学者、工程师与产业先锋在此碰撞思想火花，一同探讨未来技术路径。这种直面用户的深度互动，也为雷博科仪后续产品研制与市场拓展注入新的动能。

　　AC200匀胶机以全新升级的外观设计适配实验室需求，其先进的设计理念采用模块化架构，不仅支持去边、背洗、匀胶、显影、清洗等多功能模块的个性化定制与自由组合，更可实现功能模块快速拆卸替换，明显提升操作便捷性。

　　设备搭载精密运动控制管理系统，通过高度集成的技术方案，在保障实验精度与重复性的同时，为用户更好的提供了从基础研发到工艺优化的全流程灵活支持，充分满足复杂实验场景下的定制化需求与高效运维标准。

　　DM200-SE显影机通过创新技术设计，实现了工艺精度与操作效能的双重突破。设备是采用全封闭式显影结构，有很大效果预防显影雾气外溢，既保障实验环境洁净无污染，又通过内腔镜面抛光不锈钢材料质地与耐腐蚀喷塑外壳的协同作用，确保设备表面光洁易维护。

　　DM200-SE显影机核心功能系统搭载可调节的波体流量与回吸控制模块，配合实时显示的真空压力调节系统，支持精细化工艺参数定制；内置真空过滤器形成双重防护机制，既能精准阻隔液体侵入真空泵，又通过模块化设计满足多场景工艺需求，为半导体及微电子领域提供了兼具环境友好性、操作灵活性与设备耐久性的显影解决方案。

　　HP100-SE烤胶机通过创新技术整合与人性化设计，为半导体工艺提供高效解决方案。设备是采用硬质阳极氧化铝耐腐蚀面板，确保经常使用的结构稳定性与抗腐蚀和抗老化性能；配备7寸全彩触控屏与高级PLC控制管理系统，实现精准参数调控与智能化操作体验。

　　其嵌入式安装设计支持操作高度灵活调节，适配不同实验环境需求，结合自动顶升功能可快速切换至接近烤胶模式，既优化工艺流程又提升操作便捷性，充分满足高精度烘烤工艺对设备稳定性、操控性与空间适配性的多重需求。

　　EC400是一台高真空蒸发镀膜设备，主要由真空室、蒸发源、膜厚监测仪、样品台、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。主机与控制一体化设计，操控方便;结构紧密相连，占地面积小。

　　MS450是一台高真空磁控溅射镀膜设备，主要由真空室、溅射靶枪、溅射电源、样品台、流量控制管理系统、真空获得系统、真空测量系统、气路系统、PLC+触摸屏自动控制系统等组成。主机与控制一体化设计，操控方便，并且其结构紧密相连，占地面积小。

　　雷博科仪始终坚守“卓越科学仪器，专业领域服务”的企业理念，提供精良设备，确保每一位科研人员在科研道路上能更顺畅和高效。在慕尼黑上海光博会的璀璨舞台上，雷博科仪展示的每一台设备都凝聚着雷博科仪对半导体工艺需求的深刻洞察与技术沉淀。雷博科仪正以匠心深耕技术沃土，用智慧开启中国半导体装备产业的新征程。未来，我们期待见证更多中国智造的力量在科技舞台绽放光芒。收藏 3分享至

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